一种新颖的微胶囊阵列制备方法研究
New Chemical Materials（2018）
摘要
介绍了一种简单、新颖的微胶囊阵列制备方法.首先,通过光刻技术,在光敏聚酰亚胺光刻胶表面形成阵列化2D结构的圆形凹槽,以此作为微胶囊的模板,然后利用旋涂的方法,在微胶囊模板上进行SiO2纳米粒子自组装,SiO2纳米粒子选择性的进入模板表面的凹槽之中,再将配制好的PMMA材料旋涂在微胶囊模板表面,经过加热烘干,最终形成微胶囊阵列.这种微胶囊阵列可用于以图形化、阵列化微胶囊为先决条件的限制材料,尤其在高输出、多用途的传感器领域具有潜在的应用前景.
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